sscooling ThermoRack 1801 

半導體制冷器 

熱電偶架1801 

用于等離子蝕刻和其他半應用的更高容量機架式冷卻器1800瓦的冷卻能力，比相同5U機架式外殼中的ThermoRack 1201多50% 

±0.05°C溫度穩(wěn)定性/可重復性 

工作范圍為-20°C至80°C 

專為快速響應而設計 

提供標準高流量、中等流量和低流量配置 

減少晶圓之間的差異，消除第一晶圓效應 

比基于壓縮機的冷水機組節(jié)能高達80% 

采用熱電技術，可靠性高，維護成本低 

設計簡單——只有2個運動部件 

消除氟利昂和其他有害制冷劑，以符合新的環(huán)境法規(guī) 

使用更少的設施用水和昂貴的冷卻劑，如Fluorinert或Galden 

緊湊的尺寸：1臺壓縮機冷卻器的空間內(nèi)最多可容納6個TR1801系統(tǒng) 

AMAT、LAM、TEL和Hitachi系統(tǒng)可用的通信接口 

通用電源-插上電源，即可在世界任何地方使用 

等離子蝕刻、等離子灰、CMP和其他工藝的 解決方案

熱電偶架1201 

用于等離子蝕刻和其他半應用的 機架式冷水機，冷卻能力為1200瓦 

±0.05°C溫度穩(wěn)定性/可重復性 

工作范圍為-10°C至80°C 

專為快速響應而設計 

減少晶圓之間的差異，消除第一晶圓效應 

比基于壓縮機的冷水機組節(jié)能高達80% 

采用熱電技術，可靠性高，維護成本低 

設計簡單——只有2個運動部件 

消除氟利昂和其他有害制冷劑，以符合新的環(huán)境法規(guī) 

使用更少的設施用水和昂貴的冷卻劑，如Fluorinert或Galden 

緊湊的尺寸：1臺壓縮機冷卻器的空間內(nèi)最多可容納6個TR1201系統(tǒng) 

AMAT、LAM、TEL和Hitachi系統(tǒng)可用的通信接口 

通用電源-插上電源，即可在世界任何地方使用 

等離子蝕刻、等離子灰、CMP和其他工藝的 解決方案 

輔助加熱器可用于加熱65°C以上