Kimball Physics離子槍系統或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測校準、二次離子質譜和MBE的離子注入。

操作范圍

能量范圍：10eV至20keV

束流范圍：1 nA至2μA

光斑尺寸范圍：500μm至25 mm

多功能性

柔性控制器：獨立的光纖控制和計量功能，如離子能量、源、電子能量、場控制、提取、聚焦、X-Y偏轉和電子電流控制。

堿金屬離子源的選擇允許不同的離子種類。

演出

束流穩定性：對于堿金屬源，在發射電流控制下每小時±1.0%，在沒有ECC的情況下預熱后每小時±10%。

能量穩定性：滿輸出時每小時±0.01%，每8小時±0.02%。

作戰能力

快速電容束或雙柵極脈沖

偏轉/光柵

槍裝法拉第杯

描述

能量范圍：10 eV至1 keV

束流：1 nA至100 nA

光斑尺寸：1毫米至5毫米

工作距離：10毫米至200毫米

安裝：2.75英寸CF或可拆卸

功能/選項：可聚焦、變焦鏡頭、能量范圍內的恒定光斑、偏轉、光柵、脈沖

其他信息可用。請聯系銷售人員以獲取更多詳細信息或定制請求。

Kimball Physics ES-423E（長壽命）六硼化鑭（LaB6）陰極是一種高性能、電阻加熱的熱離子電子源。目前，它被用于許多亮度受限的電子光學系統：SEM、TEM、探針、電子光刻系統等。LaB6的亮度至少比鎢高一個數量級，在寬范圍的加速電壓下提供了 分辨率，使電子顯微鏡應用中 的細節能夠清晰成像。

用于：

掃描電子顯微鏡

透射電子顯微鏡

電子光刻系統

電子探針微量分析

X射線顯微分析

表面分析

自定義應用程序

功能/選項：

延長使用壽命

在清潔的真空中運行數千小時

 穩定性

精密加工碳纖維支架

耐高溫性高

高亮度/低能量擴散

<100>定向單晶

最佳質量/高純度材料

電流密度高達30 A/cm2

工作壓力<10-7torr

精確的微平臺

 的光學性能

受控源大小

可提供標準直徑

適用于大多數系統的基座

陶瓷AEI底座或各種顯微鏡底座

發射表面尺寸適合顯微鏡使用